TS-C208 加热控制器
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8通道多区加热控制器，支持薄膜沉积多区独立控温
应有场景
产品概述
TS-C208 是一款专为薄膜沉积工艺设计的8通道多区加热控制器，具备高精度独立控温能力，可满足半导体制造中多温区同步控制需求。
核心特性
每个通道支持独立 PID 控制算法，温度分辨率达 0.1°C，响应速度快，确保各温区均匀性与稳定性。多区独立控温架构使薄膜沉积过程中的温度梯度精确可调。
应用场景
广泛应用于 CVD、PVD 等薄膜沉积设备的加热环节，适用于需要多区精确控温的半导体工艺制程，助力提升薄膜均匀性与良率。