
Heater 控温系统
Heater控温系统
Heater控温系统为薄膜沉积、刻蚀等半导体制造设备提供高精准温控解决方案,支持标准成套方案与工况定制温控程序。同一控制器硬件平台可根据用户需求配置多种软件方案,适配多样化工艺环境与应用场景。

高精准温控
为薄膜沉积、刻蚀等半导体制造设备提供高精准温控解决方案,支持标准成套方案与工况定制温控程序
灵活软件配置
同一控制器硬件平台可根据用户需求配置多种软件方案,适配多样化工艺环境与应用场景
丰富通讯接口
配备RS-485、RS-232、USB、DeviceNet、Profibus及以太网等接口,支持Modbus、SCPI、EtherCAT等标准通讯协议及其他自定协议
多级控温方案
采用多级控温方案,在保证控温高精度的同时,实现快速升温和运行稳定
温控曲线

控温范围
刻蚀设备
20-110℃
精度 ±1℃
CVD设备
200-1000℃
精度 ±2℃
PVD设备
400-1000℃
精度 ±2℃
